Influence of fin height on poly-Si/PVD-TiN stacked gate FinFET performance

T. Hayashida, Kazuhiko Endo, Y. X. Liu, S. O'uchi, T. Matsukawa, W. Mizubayashi, S. Migita, Y. Morita, H. Ota, H. Hashiguchi, D. Kosemura, T. Kamei, J. Tsukada, Y. Ishikawa, H. Yamauchi, A. Ogura, M. Masahara