Crystal phase-selective epitaxy of rutile and anatase Nb-doped TiO 2 films on a GaN template by the helicon-wave-excited-plasma sputtering epitaxy method

Kouji Hazu, Aly Fouda, Tokuyuki Nakayama, Akikazu Tanaka, Shigefusa F. Chichibu

研究成果: ジャーナルへの寄稿学術論文査読

12 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Crystal phase-selective epitaxy of rutile and anatase Nb-doped TiO 2 films on a GaN template by the helicon-wave-excited-plasma sputtering epitaxy method」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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