Enhancement type InP metal-insulator-semiconductor field-effect transistor with plasma anodic aluminium oxide as the gate insulator

Y. Hirayama, H. M. Park, F. Koshiga, T. Sugano

研究成果: Article査読

23 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Enhancement type InP metal-insulator-semiconductor field-effect transistor with plasma anodic aluminium oxide as the gate insulator」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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