L-band on-chip matching Si-MMIC low noise amplifier fabricated in SOI CMOS process

M. Ono, N. Suematsu, Y. Yamaguchi, K. Ueda, H. Komurasaki, S. Kubo, Y. Iyama, O. Ishida

研究成果: Conference contribution

抄録

In this paper, on-chip matching Si-MMIC low noise amplifier (LNA) was fabricated in a 0.35 μm SOI CMOS process. This LNA offers 8.7 dB gain, 4.2 dB NF,-2 dBm IIP3 at 2.1 GHz with 3 V, 3 mA DC power. The reduction of the dielectric loss of the spiral inductor is also discussed by referring to the extraction result of the equivalent circuit parameter.

本文言語English
ホスト出版物のタイトル1998 Topical Meeting on Silicon Monolithic Integrated Circuits in RF Systems, SiRF 1998
編集者Sammy Kayali
出版社Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
ページ90-93
ページ数4
ISBN(電子版)0780352882, 9780780352889
DOI
出版ステータスPublished - 1998 1月 1
外部発表はい
イベント1st Topical Meeting on Silicon Mono1ithic Integrated Circuits in RF Systems, SiRF 1998 - Ann Arbor, United States
継続期間: 1998 9月 181998 9月 18

出版物シリーズ

名前1998 Topical Meeting on Silicon Monolithic Integrated Circuits in RF Systems, SiRF 1998
1998-September

Other

Other1st Topical Meeting on Silicon Mono1ithic Integrated Circuits in RF Systems, SiRF 1998
国/地域United States
CityAnn Arbor
Period98/9/1898/9/18

ASJC Scopus subject areas

  • 電子工学および電気工学
  • 電子材料、光学材料、および磁性材料
  • 器械工学

フィンガープリント

「L-band on-chip matching Si-MMIC low noise amplifier fabricated in SOI CMOS process」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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