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New write/erase method for the reduction of the stress-induced leakage current based on the deactivation of step tunneling sites for flash memories
T. Endoh
, K. Shimizu, H. Iizuka, S. Watanabe, F. Masuoka
研究成果
:
Conference article
›
査読
2
被引用数 (Scopus)
概要
フィンガープリント
フィンガープリント
「New write/erase method for the reduction of the stress-induced leakage current based on the deactivation of step tunneling sites for flash memories」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。
並べ替え順
重み付け
アルファベット順
Engineering
Control Gate
100%
Electric Potential
50%
Read Disturb
50%
Stress Induced Leakage Current
50%
Polarity
25%
Gate Voltage
25%
Erase Operation
25%
Flash Memory
25%
Characteristics
25%
Reduction
25%
Mechanisms
25%
Tunnels
25%
Cycles
25%
Computer Science
Read Operation
50%
Leakage Current
25%
Tunneling
25%
Write Operation
25%
Flash Memory
25%
Erase Operation
25%
Neuroscience
Memory
25%
Oxides
25%