Photo-irradiated caffeic acid exhibits antimicrobial activity against Streptococcus mutans biofilms via hydroxyl radical formation

Keisuke Nakamura, Midori Shirato, Taro Kanno, Peter Lingström, Ulf Örtengren, Yoshimi Niwano

研究成果: ジャーナルへの寄稿学術論文査読

24 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Photo-irradiated caffeic acid exhibits antimicrobial activity against Streptococcus mutans biofilms via hydroxyl radical formation」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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