Resistance ridges along filling factor ν = 4i in SiO2/Si/ SiO2 quantum wells

K. Takashina, M. Brun, T. Ota, D. K. Maude, A. Fujiwara, Y. Ono, H. Inokawa, Y. Hirayama

研究成果: 書籍の章/レポート/Proceedings会議への寄与査読

抄録

We examine Landau level coincidences in SiO2/Si(100)/SiO 2 quantum wells. Surprisingly, under certain conditions of apparent multiple degeneracy, our data reveal strikingly novel behavior where the resistance is elevated at filling factors that are integer multiples of 4. This structure persists when underlying single particle energies are swept leading to resistance ridges running along v = 4i. The data suggest a new type of many-body effect due to the combined degeneracy of valley and spin.

本文言語英語
ホスト出版物のタイトルPhysics of Semiconductors - 28th International Conference on the Physics of Semiconductors, ICPS 2006, Part A and B
ページ625-626
ページ数2
DOI
出版ステータス出版済み - 2007
イベント28th International Conference on the Physics of Semiconductors, ICPS 2006 - Vienna, オーストリア
継続期間: 2006 7月 242006 7月 28

出版物シリーズ

名前AIP Conference Proceedings
893
ISSN(印刷版)0094-243X
ISSN(電子版)1551-7616

会議

会議28th International Conference on the Physics of Semiconductors, ICPS 2006
国/地域オーストリア
CityVienna
Period06/7/2406/7/28

フィンガープリント

「Resistance ridges along filling factor ν = 4i in SiO2/Si/ SiO2 quantum wells」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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