Substrate-polarity dependence of metal-organic vapor-phase epitaxy-grown GaN on SiC

T. Sasaki, T. Matsuoka

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抄録

Single-crystal gallium nitride was grown on each of the two polar {0001} planes of 6H-silicon carbide substrates utilizing metal-organic vapor-phase epitaxy. The substrate polarity is clearly shown to strongly influence the surface morphology and the photoluminescence property of the layer. The examination of the layer surfaces using x-ray photoelectron spectroscopy revealed that {0001} GaN grown on the basal planes of SiC changes its polarity in accordance with the substrate polarity.

本文言語English
ページ(範囲)4531-4535
ページ数5
ジャーナルJournal of Applied Physics
64
9
DOI
出版ステータスPublished - 1988
外部発表はい

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  • 物理学および天文学(全般)

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